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» 2011年02月15日 12時00分 UPDATE

電子ブックレット:次世代リソグラフィ技術の落とし穴

リソグラフィ技術は分岐点に差し掛かっており、今後誤った方向に向かう恐れがある。リソグラフィ技術は、ムーアの法則が示す半導体のスケーリング則を実現する生産技術である。現在のリソグラフィ技術は予想よりはるかに長く使われているが、近い将来に行き詰まる可能性が高い。各社が使っている光リソグラフィ技術の後継となる技術の研究は、何十年も前から始まっている。

[EE Times Japan]
エンジニア電子ブックレット

次世代リソグラフィ技術の落とし穴

 アイティメディアがモノづくり分野の読者向けに提供する「@IT MONOist」「EE Times Japan」に掲載した主要な記事を、読みやすいPDF形式の電子ブックレットに再編集した「エンジニア電子ブックレット」。本日はEE Times Japanの記事『次世代リソグラフィ技術の落とし穴』をお届けします。


次世代リソグラフィ技術の落とし穴

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リソグラフィ技術は分岐点に差し掛かっており、今後誤った方向に向かう恐れがある。リソグラフィ技術は、ムーアの法則が示す半導体のスケーリング則を実現する生産技術である。現在のリソグラフィ技術は予想よりはるかに長く使われているが、近い将来に行き詰まる可能性が高い。各社が使っている光リソグラフィ技術の後継となる技術の研究は、何十年も前から始まっている。

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