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» 2019年03月27日 07時00分 公開

FAニュース:プラズマダイシング工程におけるレジスト塗布ソリューションを提供

EV Groupとパナソニック スマートファクトリーソリューションズは、プラズマダイシング工程におけるレジスト塗布ソリューションの提供を開始した。

[MONOist]

 EV Group(EVG)とパナソニック スマートファクトリーソリューションズ(PSFS)は2019年3月13日、プラズマダイシング工程におけるレジスト塗布ソリューションの提供を開始した。

 両社は、IoT(モノのインターネット)向けセンサー、MEMS、RFID、CMOSイメージセンサーと、薄型メモリ向けに開発されたプラズマダイシング工法において連携を図り、その前工程に当たるレジスト塗布工程で新しいソリューションを提供する。

 プラズマダイシング工法の前工程は、マスクとなるレジストをウエハー表面に数十μmの厚膜で塗布し、ダイシング部をレーザーやフォトリソでパターニングする。しかし、この工程では5μm程度の段差がウエハー表面にあり、電極部にバンプを持つウエハーが多いため、均一な厚膜でプラズマダイシング用レジストを塗布できないという課題があった。

 EVGはこの課題を解決するため、塗布装置「EVG100」シリーズにおいて、ウエハー表面の段差構造に依存しない均一な塗布方法を、独自のOmniSpray技術によりプラズマダイシング向けに開発。バンプ付きウエハーに均一な厚膜でレジストを塗布できるようにした。

 また、PSFSは、大阪府門真市にあるプラズマダイシング実証センターに、EVG100シリーズを導入。バンプ付きウエハー表面にレジストを塗布してパターニング後、PSFS製プラズマダイサー「APX300ダイサーモジュール」でダイシングするソリューションを開発した。

 EVGとPSFSは、同センターにおける実証を通して、このレジスト塗布ソリューションの提供を開始し、ユーザーのダイシング品質、生産性向上に貢献するとしている。

photo プラズマダイシングのプロセスフロー 出典:PSFS
photo バンブウエハーへのレジスト塗布(EVG) 出典:PSFS
photo EVG製レジスト塗布装置「EVG150」 出典:PSFS
photo PSFS製「APX300ダイサーモジュール」 出典:PSFS

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